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HNCJ系列雷電沖擊電壓發(fā)生裝置
生產(chǎn)廠家 沖擊電壓試驗裝置 調(diào)頻串聯(lián)諧振 CVT變頻諧振交流耐壓裝置產(chǎn)品簡介:
聯(lián)系人車高平13608980122/15689901059沖擊電壓發(fā)生器主要用于電力設(shè)備等試品進行雷電沖擊電壓全波、雷電沖擊電壓截波和操作沖擊電壓波的沖擊電壓試驗,檢驗絕緣性能。沖擊電壓發(fā)生器一種模仿雷電及操作過電壓等沖擊電壓的電源裝置。主要用于絕緣沖擊耐壓及介質(zhì)沖擊擊穿、放電等試驗中。
激光是上世紀(jì)6年代發(fā)展起來的一項新技術(shù),是一種顏色很純、能量高度集中、方向性很好的光。隨著電子技術(shù)、激光技術(shù)等新型技術(shù)的飛速發(fā)展,激光測距儀順應(yīng)時代誕生。激光測距儀的工作原理十分簡單:通過測定激光開始發(fā)射到激光從目標(biāo)反射回來的時間來測定距離,所以它是利用調(diào)制激光的某個參數(shù)實現(xiàn)對目標(biāo)的距離測量的儀器,重量輕、體積小、操作簡單,速度快而準(zhǔn)確,其誤差僅為其它光學(xué)測距儀的五分之一到數(shù)百分之一。這些優(yōu)點集中于激光測距儀一身,使其市場情形一片大好。
沖擊測試系統(tǒng)系應(yīng)用于諸如電力變壓器、比成器、高壓開關(guān)及電力電纜等高壓器材的沖擊電壓試驗。此種測試系依據(jù)相關(guān)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范執(zhí)行全波(full)或截斷(chopped) 的閃電突波(L.I)
有源RF和FEM的個關(guān)鍵屬性是諧波行為。諧波行為由非線件引起,會導(dǎo)致在比發(fā)射頻率高數(shù)倍的頻率下產(chǎn)生輸出功率。由于許多無線標(biāo)準(zhǔn)對帶外輻射進行了嚴格的規(guī)定,所以工程師會通過測量諧波來評估RF或FEM是否違反了這些輻射要求。測量諧波功率的具體方法通常取決于RF的預(yù)期用途。對于通用RF等器件備來說,諧波測量需要使用連續(xù)波信號來激勵DUT,并測量所生成的不同頻率的諧波的功率。相反,在測試無線或RF時,諧波測量一般需要調(diào)制激勵信號。
HNCJ-V 雷電沖擊電壓發(fā)生裝置產(chǎn)品特征
本部分主要是控制沖擊電壓發(fā)生器的操作,手動或自動完成充放電過程,真正實現(xiàn)智慧化操作。
充電控制功能
系統(tǒng)采用恒流充電。
根據(jù)試驗要求,調(diào)節(jié)充電電壓、充電時間、延時時間,能夠手動或者自動控制電壓發(fā)生器的充電過程。采用自動控制方式充電時,根據(jù)設(shè)定值,自動充電并穩(wěn)定在充電電壓值上,延時3秒報警觸發(fā)。充電電壓的重復(fù)性和穩(wěn)定度很好。
動作控制
本體球距大小能夠自動跟蹤設(shè)定充電電壓值,也可手動控制調(diào)節(jié)球距大小。本體球距值在觸摸屏或組態(tài)軟件中有顯示。
截波球距大小能夠自動跟蹤設(shè)定充電電壓值,也可手動控制調(diào)節(jié)球距大小。截波球距值在觸摸屏或組態(tài)軟件中有顯示。
可控制本體自動接地、充電極性切換、充電次數(shù)設(shè)定等功能。
手動/自動控制。
2 觸發(fā)控制
系統(tǒng)能夠手動、自動或報警觸發(fā)沖擊電壓發(fā)生器點火。觸發(fā)點火信號可以立延時
毋庸置疑,這種運營方式代價高昂,更不必說這絕不可能是無懈可擊的全天候控制過程。多年來,采礦工業(yè)極為關(guān)心泄漏和水資源管理對環(huán)境的影響,并且一直在積極尋求改進監(jiān)控方法?!笨紤]到這些需求,IntelliView開發(fā)出一種行之有效的、能在數(shù)秒鐘之內(nèi)檢測和報警小規(guī)模地上液體泄漏、噴射和匯聚成池的方法。IntelliView的泄漏檢測解決方案采用新一代稱之為DCAM?(雙攝像頭模塊)的產(chǎn)品,一款將可見光相機和FLIR熱像儀與內(nèi)置型泄漏技術(shù)集于一體的緊湊型產(chǎn)品。18年1月3日,NI(美國儀器,NationalInstruments,簡稱NI)作為致力于為工程師和科學(xué)家提供基于平臺的系統(tǒng)解決方案來應(yīng)對嚴峻工程挑戰(zhàn)的供應(yīng)商,宣布推出PXIe-4163高密度源測量單元(SMU),該測量單元提供了比以往NIPXISMU高達6倍的直流通道密度,適用于測試RMEMS以及混合信號和其他模擬半導(dǎo)體元件。NI銷售和市場執(zhí)行副總裁EricStarkloff表示:“5物聯(lián)網(wǎng)和自動駕駛汽車等性的技術(shù)發(fā)展給半導(dǎo)體企業(yè)帶來持續(xù)的壓力。