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HN11C高壓開(kāi)關(guān)綜合測(cè)試儀高壓斷路器儀 HN11C系列 模擬斷路器 售后完善
一、功能特點(diǎn)
測(cè)試指標(biāo):可測(cè)試國(guó)產(chǎn)(進(jìn)口)真空、六氟化硫、油高壓斷路器,負(fù)荷開(kāi)關(guān)、GIS接地刀閘開(kāi)關(guān)、接觸器、繼電器、空氣開(kāi)關(guān)等。合、分閘時(shí)間、同期、彈跳時(shí)間、次數(shù)、自動(dòng)重合閘、行程、速度、電流、動(dòng)作電壓等各項(xiàng)數(shù)據(jù)、波形。
抗擾通道:可抵御550KV變電所現(xiàn)場(chǎng)靜電干擾!瞬態(tài)溫度響應(yīng)曲線包含了熱流傳導(dǎo)路徑中每層結(jié)構(gòu)的詳細(xì)熱學(xué)信息(熱阻和熱容參數(shù))。應(yīng)用實(shí)例1.如何利用結(jié)構(gòu)函數(shù)識(shí)別器件的結(jié)構(gòu)LED的一般散熱路徑為:芯片-固晶層-支架或基板-焊錫膏-輔助測(cè)試基板-導(dǎo)熱連接材料如下面結(jié)構(gòu)函數(shù)顯示,結(jié)構(gòu)函數(shù)上越靠近y軸的地方代表著實(shí)際熱流傳導(dǎo)路徑上接近芯片有源區(qū)的結(jié)構(gòu),而越遠(yuǎn)離y軸的地方代表著熱流傳導(dǎo)路徑上離有源區(qū)較遠(yuǎn)的結(jié)構(gòu)。積分結(jié)構(gòu)函數(shù)是熱容—熱阻函數(shù),曲線上平坦的區(qū)域代表器件內(nèi)部熱阻大、熱容小的結(jié)構(gòu),陡峭的區(qū)域代表器件內(nèi)部熱阻小、熱容大的結(jié)構(gòu)。
位移通道:1路位移信號(hào)采集,適配耐用的精密電阻線性位移、角位移傳感器。亦可適配用戶傳統(tǒng)自配的滑線電阻傳感器。
同步觸發(fā):可響應(yīng)電壓、電流、傳感器、斷口變化多種同步觸發(fā)方式。具有無(wú)電位接點(diǎn)操作控制模塊,無(wú)彈跳接點(diǎn),接點(diǎn)開(kāi)斷容量: 30A,250V(AC/DC)
操作界面:5.7″黑白液晶屏,菜單式操作,并在面板上增加了快捷設(shè)置按鍵。配備高精度激光傳感器,傳感器安裝迅速、快捷、簡(jiǎn)單;同時(shí)也可配置滑線電阻傳感器和角度傳感器;并配備齊全相關(guān)傳感器、斷路器的測(cè)試支架;現(xiàn)在對(duì)線、棒材產(chǎn)品質(zhì)量的要求正在持續(xù)增長(zhǎng),這種要求不僅包括對(duì)表面質(zhì)量和機(jī)械性能的要求,而且在很大程度上,包括對(duì)尺寸公差的要求,尤其對(duì)橢圓度的要求。軋制產(chǎn)品高精度的尺寸公差對(duì)顧客來(lái)說(shuō)是相當(dāng)重要的他們?cè)试S的機(jī)加工公差,這樣可節(jié)約材料和降低機(jī)械加工成本,這是對(duì)現(xiàn)代自動(dòng)成型機(jī)械中使用這些軋材的主要考慮。棒、線材產(chǎn)品精度高的公差使省去后續(xù)的某些機(jī)械加工步驟成為可能。線材測(cè)徑儀的小公差檢測(cè)恰恰滿足這一特點(diǎn),它的0.02mm的測(cè)量精度滿足現(xiàn)在的公差精度要求,對(duì)鋼材高質(zhì)量生產(chǎn)具有重要的意義。
速度定義:提供了常用的開(kāi)關(guān)速度定義庫(kù)和可編輯速度定義庫(kù)兩種模式可供用戶自行選擇。
錄波功能:12路普通金屬觸頭通斷、線圈電流;行程、時(shí)間波形。具有斷路器型號(hào)庫(kù)功能,測(cè)試時(shí)可直接調(diào)用數(shù)據(jù)庫(kù)斷路器型號(hào),無(wú)需特別設(shè)置
U盤存儲(chǔ):可將數(shù)據(jù)及波形文件快速存儲(chǔ)到U盤,直接用上位機(jī)軟件打開(kāi)。
在線幫助:儀器內(nèi)置豐富的接線、安裝、測(cè)試操作幫助。無(wú)說(shuō)明書就能簡(jiǎn)單使用。但通過(guò)熱像儀,我們可以準(zhǔn)確看到佛像左小手臂下方有明顯的裂縫存在。這其中的原理是,裂縫中存在空氣對(duì)流的情況,導(dǎo)致裂紋處的表面溫度與佛像本體的溫度存在溫差。熱像儀將溫度場(chǎng)分布通過(guò)圖像的形式來(lái)表達(dá),所以在紅外圖中可以直觀看到,但在可見(jiàn)光中無(wú)法看到該裂縫。受潮檢測(cè)佛像底座受潮檢測(cè),針對(duì)霉變隱患處進(jìn)行防霉除霉處理。由于佛像依山開(kāi)鑿,山體中的毛細(xì)水沿著山勢(shì)經(jīng)年累月緩慢地浸入佛像底座。佛像中濕度大的區(qū)域與干燥的區(qū)域,存在細(xì)微溫差。